-- Molecular Imprints 交付新一代壓印模塊系統(tǒng)用于半導(dǎo)體存儲器生產(chǎn)
-- Molecular Imprints 本季度將交付三套新一代壓印系統(tǒng)，其中兩套預(yù)計將交付給一家領(lǐng)先的半導(dǎo)體集成器件制造商
德克薩斯州奧斯汀2013年4月23日電 /美通社/ -- 先進(jìn)半導(dǎo)體光刻及納米圖案成形系統(tǒng)與解決方案的市場與技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)商 Molecular Imprints, Inc.（簡稱 MII）今天宣布，該公司預(yù)定于本季度首先交付三套先進(jìn)壓印模塊，這些模塊將被整合進(jìn) MII 設(shè)備合作伙伴的光刻機(jī)系統(tǒng)中。模塊采用了 MII 專有的最新 Jet and Flash? 壓印光刻 (J-FIL?) 技術(shù)，這項技術(shù)具備大批量生產(chǎn)規(guī)格小于20納米的先進(jìn)半導(dǎo)體存儲設(shè)備所需的性能。
（圖標(biāo)：http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO）
Molecular Imprints 首席執(zhí)行官 Mark Melliar Smith 表示：“我們最新交付的壓印模塊采用了增強(qiáng)型的放大控制和曝光技術(shù)，以及更好的機(jī)上光刻膠過濾、實時精密機(jī)器控制和升級版的光刻膠噴射注系統(tǒng)，能夠大幅降低缺陷率、提高產(chǎn)量和覆蓋準(zhǔn)確度以及降低總擁有成本。在實現(xiàn)所有這些改進(jìn)的同時還可以降低系統(tǒng)平臺成本和減小產(chǎn)品尺寸。我要祝賀我們的開發(fā)和工程團(tuán)隊完成了又一項出色的產(chǎn)品設(shè)計和開發(fā)任務(wù)，并要感謝我們的設(shè)備合作伙伴給予的大力支持與協(xié)作。我們期待在今年晚些時候看到這些系統(tǒng)在我們半導(dǎo)體客戶的生產(chǎn)設(shè)備中發(fā)揮作用。”
Molecular Imprints, Inc. 簡介
Molecular Imprints, Inc. (MII) 是半導(dǎo)體與硬盤驅(qū)動器行業(yè)高分辨率、低擁有成本納米圖案成形系統(tǒng)和解決方案的技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)商。MII 將憑借其創(chuàng)新的 Jet and Flash? 壓印光刻 (J-FIL?) 技術(shù)成為存儲設(shè)備大批量圖案成形解決方案的全球市場和技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)商，并為新興市場顯示器、清潔能源、生物技術(shù)等行業(yè)的發(fā)展提供支持。MII 通過提供價格適中、可兼容且分辨率可擴(kuò)展至小于10納米的全方位納米圖案成形解決方案來支持納米級納米制造。垂詢詳情或關(guān)注該公司的微博，請訪問：www.molecularimprints.com。
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Paul Hofemann
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