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三星采用新思科技Custom Compiler 為采用EUV技術的5LPE工藝加速IP設計

三星基于新思科技定制設計平臺,發(fā)布5LPE AMS參考流程
Synopsys, Inc.
2020-02-13 08:00 13550

加州山景城2020年2月13日 /美通社/ -

重點:

  • 三星已經(jīng)在其內部IP設計中采用Custom Compiler,為5LPE工藝加速混合信號IP設計
  • 新思科技定制設計平臺是第一款面向三星5LPE工藝提供AMS參考流程的定制設計解決方案
  • 5LPE AMS參考流程能夠幫助提升設計工程師的工作效率,加速針對5G、人工智能、高性能計算和汽車應用的部署

新思科技Synopsys, Inc.,納斯達克股票代碼:SNPS)近日宣布,全球先進半導體技術領導者三星已經(jīng)采用新思科技定制設計平臺,基于Custom Compiler?設計環(huán)境,為其采用遠紫外(EUV)光刻技術的5納米早期低功耗(LPE)工藝進行IP設計。為了支持部署,三星和新思科技已經(jīng)共同開發(fā)了針對該平臺的模擬/混合信號(AMS)參考流程,以及5LPE可互操作工藝設計套件(iPDK),并且現(xiàn)在能夠提供給三星的客戶使用。這個參考流程充分利用Custom Compiler的視覺輔助自動化技術,幫助提升開發(fā)者的工作效率,以更快速度完成設計。

三星IP開發(fā)團隊副總裁Jongshin Shin表示:“5G、人工智能、高性能計算和汽車應用等日益增長,推動了客戶采用5LPE工藝技術的需求。為了提升這個工藝節(jié)點開發(fā)者的效率,我們與新思科技合作開發(fā)AMS參考流程,并為我們自己的內部設計團隊部署這一流程?!?/p>

新思科技定制設計平臺是首款面向三星5LPE工藝并提供AMS參考流程支持的定制設計解決方案。這個定制設計平臺的主要特征包括可靠性感知驗證、參數(shù)提取融合技術和視覺輔助版圖設計??煽啃愿兄炞C可以確保進行可靠的AMS設計,并帶有簽核(Sign-off)精度的晶體管級EM/IR分析、大規(guī)模蒙特卡洛仿真、老化分析和其它驗證檢查。采用StarRC?寄生參數(shù)提取的參數(shù)提取融合技術通過在版圖設計完成之前,支持精確的寄生仿真,來縮短設計收斂時間。視覺輔助自動化是一種減少版圖設計工作量的開創(chuàng)性方法,尤其適用于先進節(jié)點設計,它已被證明能夠提升工作效率。

三星已經(jīng)為其內部IP設計團隊部署了基于新思科技定制設計平臺的完整設計流程,以便加速5LPE IP設計。相同的平臺也在被新思科技使用,為三星5LPE工藝設計業(yè)內最廣為使用的經(jīng)過硅驗證的IP -- Synopsys DesignWare® Library。新思科技的定制設計平臺以Custom Compiler電路設計和版圖設計環(huán)境為基礎,包含HSPICE®、FineSim® SPICE和CustomSim? FastSPICE電路仿真;Custom WaveView?波形顯示;StarRC寄生參數(shù)提取以及IC Validator物理驗證。

5LPE參考流程包含一系列教程,以闡明怎樣利用新思科技定制平臺來達到5納米電路和版圖設計的關鍵要求。這些教程包含樣例設計數(shù)據(jù)和步驟介紹說明,支持完成典型的電路和版圖設計任務。所覆蓋的任務包含:

  • 設計輸入
  • 電路仿真
  • 可靠性和可變性分析
  • 瞬態(tài)噪聲分析
  • RF仿真
  • 原理圖驅動的版圖設計
  • Dummy填充和著色
  • 簽核DRC和LVS

該參考流程可以通過三星SAFE?計劃獲取,這項計劃提供經(jīng)過廣泛測試的三星工藝設計套件(PDK)和參考流程(附帶設計方法)。

新思科技芯片設計事業(yè)部產(chǎn)品管理副總裁Aveek Sarkar表示:“在以期利用現(xiàn)有設計工具更快取得結果的需求推動下,客戶正在加速轉向使用Custom Compiler。此次合作,能夠讓我們共同的客戶,包括三星內部IP開發(fā)者,最大限度地提升開發(fā)者的工作效率,并以更快的速度完成設計?!?/p>

欲了解更多新思科技定制設計平臺詳情,請訪問www.customcompiler.info。

消息來源:Synopsys, Inc.
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